真空光学镀膜工艺流程及用到的真空泵
发布时间：
2023-10-25 16:10
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真空光学镀膜工艺是一种重要的表面处理工艺，常用于光学仪器、电子设备、航空航天等领域。其基本原理是利用真空环境中的物理和化学现象，使金属薄膜或氧化膜沉积在基材上形成所需的光学特性。下面以“某光学镜片镀膜工艺流程”为例，来介绍真空光学镀膜工艺流程。
一、工艺准备:
1、材料准备:选用高质量的光学镜片。
2、设备准备:真空膜厚计、真空泵、离子源、金属靶材料等。
3、环境准备:密闭严密的真空室。
4、处理工具:打磨、清洗、去污等工具。
二、工艺流程:
1、打磨:对光学镜片进行精细打磨，以去除表面微小凹陷和杂质。
2、清洗:使用特殊的清洗液以及超声波清洗设备对光学镜片进行清洗，确保表面干净。最好是先用清水清洗一遍， 再用去离子水清洗。
3、真空加热:放入真空室内，用通电加热的方式将光学镜片进行升温处理，使表面吸附的气体得以蒸发并被泵走。
4、金属膜沉积:将工作气体引入真空室，开启离子源区域，将金属靶材料进行蒸发，靶材料原子沉积在光学镜片表面，并形成一层 非常薄的金属薄膜。
5、膜厚监控和控制:使用真空膜厚计对薄膜进行实时监控，根据需要调整离子源运行参数，确保形成所需的光学特性。
6、冷却中收回工件:当工件达到预定膜厚或者镀膜时间结束时，离子源停止，真空室内冷却至环境温度。工件拿出真空室，放置于恒温房中冷却至室温，镀膜完成。
三、案例说明:
例如:一批8英寸正厚度圆晶片(100) Oriented上，半导体研磨基板需进行紫外线的反射膜镀膜，要求反射率高达98%以上，波长范围为250~400nm。通常使用氧化硅(Si02) 和二氧化硅(Si02) 的多层膜结构，并采用离子辅助沉积法进行制备。反射膜结构为: 202层Hf02/Si02， 反射率在250^ 390nm范围内高达99%以上，以提高紫外线光强，应用于紫外线激光系统中。
通过上述过程，光学镜片可精准控制膜厚，实现光学镜片的镀膜需求，并确保镀膜前后表面无任何缺陷和瑕疵，并防止末端瘤等问题的产生。
注：光学镀膜真空泵一般有用到：旋片泵、隔膜泵、涡旋泵、罗茨泵、分子泵等等。关于更多详情请咨询深圳信德宏远。
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